Nassfilm Plug-via Siebdrucker, Lötmasken-Siebdrucker, Zwillings-Tisch Plug-via Siebdrucker

Zwillings-Tischwechsel hinein und heraus, ein Tisch in Druckposition, ein anderer Tisch zum Entladen / Laden, um perfekt abzustimmen und die Anforderungen für eine schnelle Produktion zu erfüllen.

Zwillings-Tisch Nassfilm Plug-via Siebdrucker

ATMAOE EW68TT

Nassfilm Plug-via Siebdrucker, Lötmasken-Siebdrucker, Zwillings-Tisch Plug-via Siebdrucker

Spezialisiert auf die Verarbeitung von Siebdruckphotoresist-Lötstopplack-Nassfilm mit/ohne Durchkontaktierungen auf Leiterplatten.

Initiative Doppelschaber bidirektionales Drucken + bidirektionales Abziehen + bidirektionale Tischverschiebung und so weiter patentierte Funktion, Doppelmaschinenbetrieb, Trocknen nach beidseitigem Druck, präzise Kontrolle (Schaltkreiseckenriss darf nicht beim Drucken ausgelassen werden), (bidirektionale Drucktinte nicht ausgerichtet / präzise), (automatische Reinigung von Rückständen unter dem Sieb), (Sättigung der Durchkontaktierungen, kein Aufprall nach dem Trocknen) und so weiter perfekter Druckeffekt, deutliche Steigerung der Druckgeschwindigkeit und Ausbeute, führend im Trend der PCB-Produktion

Merkmale

  • Doppelrakel / Doppelabzieher: Doppelmaschine kooperiert oder eine Einzelmaschine erledigt beidseitiges Drucken und Trocknen, um die Produktionseffizienz zu steigern.
  • Tischverschiebung: ermöglicht das Verfolgen des Druckhubes in X/Y-Achsenrichtung, korrigiert den fehlausgerichteten bidirektionalen Druck, um eine konsistente Tintenübertragung zu erreichen oder Rückstände von Tinten auf dem Sieb während des Druckens zu entfernen. Die Bewegungsentfernung kann fein eingestellt werden.
  • Ein-Knopf-Verriegelung: Zum Feinjustieren des oberen/unteren Tisches einfach einen Knopf drücken, um die Geschwindigkeit der Siebpositionierung zu erhöhen.
  • Winkelverstellung: innere/äußere Neigungswinkelverstellung zur Erleichterung von Genauigkeit und Stärke.
  • Zentrische Abziehvorrichtung: Begrenzt den Hub des Siebs im Abstand während des Druckens, um eine konsistente Tintenübertragung in Durchkontaktierungen zu erreichen.
  • Blockade-Schutz: Nicht-Durchkontaktierungs-Bereich, der einen Blockade-Schutz bildet. Durchkontaktierungs-Bereich wird direkt durch das geöffnete Sieb gedruckt, ein einmaliger Prozess, um zwei Effekte zu erzielen.

Spezifikation

ModellATMAOE_EW68TT
Substratdicke0,1 bis 10 mm
Maximale ProduktivitätEtwa 120 bis 180 P/H
(abhängig vom Seitenverhältnis, der Tintenviskosität und der Rakelgeschwindigkeit, die Unterschiede verursachen)
Maximale Druckfläche690(D) x 710(W)mm(H-Typ-Rakel im Winkel von 20°)
610(D) x 710(W)mm(H-Typ-Rakel im Winkel von 30°)
Tischgröße1000x950mm
Maximale Rahmen O/D Größe1200x1200mm (ausgestattet mit Bildschirmverschiebungsgerät)
1300x1300mm (ohne Bildschirmverschiebungsgerät)
Druckkopf-Schrägstellung±5°
DoppelrakelwinkelInnen-/Außenwinkel 30°
Abziehhöhe0〜25 mm
Luftauslass25 L/min
(einschließlich Bildschirmverschiebung)
Stromverbrauch4.3kw
(optionales Vakuum 5.8kw)
Maschinengewicht1300 kg
Maschinenabmessungen1800x2810x1400 mm

Andere Modelle aus derselben Serie, aber in verschiedenen Größen:
ATMAOE EW67TT (maximale Druckfläche 640x640mm)
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Zwillings-Tisch Nassfilm Plug-via Siebdrucker | ATMA

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ATMA stellt seit 1979 Siebdruckmaschinen her, und wir können Ihnen helfen, den Siebdrucker mit Zuführern, Trocknern, Beschichtern und Farbmischeinheiten auszurichten.

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